光刻应用
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        XZC光刻过滤器采用一系列膜材料来有效地去除工艺中的污染物。消除了有害微粒污染,凝胶微桥缺陷,微泡空洞缺陷以及晶片表面上的金属污染的可能性。高润湿性膜不会阻碍空气排出,导致较少的微泡形成和较短的吹扫时间。

        优化过滤器设计可减少启动过程中的化学品使用量,并较大程度的减少了在晶片表面气泡缺陷的形成。过滤器清除空气可防止形成微泡,这对于减少涂层缺陷和提高产量至关重要。过滤器的设计在两端提供较低的压差,并在分配过程中较大限度地减少气泡的形成。

        XZC的过滤器设计使用大表面积,低压差,从而提高凝胶去除效率和最小化微泡形成。

        低操作压力确保过滤器在分配过程中不会导致光化学物质释放出气体,因为它们在分配过程中从高压分配到低压。这可以通过具有低压降的过滤器来实现。尼龙6,6和高密度聚乙烯膜与典型的光刻化学品完全兼容,在提取物方面极其干净,并具有优异的润湿性。



 


        




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